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赛普拉斯低成本高可靠嵌入式闪存技术

Cypress 2017-12-27 06:21 次阅读
Outline 1. Charge-trap eNVMs at Cypress 2. SONOS     –Introduction     –Key Macro Specs     –High Reliability 3. eCT      –Introduction      –Key Macro Specs      –High Reliability 4. Embedded NVM Solutions for Various Applications Charge-trap eNVMs at Cypress Cypress develops, uses and licenses two embedded NVM technologies
  1. SONOS and eCT,both are charge-trap non-volatile memories.
SONOS: Silicon Oxide Nitride Oxide Silicon 
  1. Originally developed at Sandia National Lab, CY acquired it in 1998.
  2. Available at 0.35µm, 0.13µm, 95nm, 65nm, 55nm, 40nm and 28nm process nodes.
  3. Shipped>1,200,000 wafers from foundry partners HHGrace, HLMC and UMC.
  4. Low cost, Lowpower, suitable for IoT, consumer, industrial, and automotive grade2/3 applications.
eCT : embedded  Charge Trap
  1. Former Spansion’s eNVM technology for automotive MCUs.
  2. Based on 6 generations of Mirror Bit technologies.
  3. In production (MCUs) at 40 nm node at UMC.
  4. Automotive Grade-1 qualified.
Key Features SONOS Introduction Silicon Oxide Nitride Oxide Silicon
  1. A planar, scalable MOS transistor with an ONO stack as the gate dielectric.
  2. Store captured charges in discrete traps in the nitride (N) layer through FN tunneling.
Low Cost, Low Power, High Security
  1. Lowest cost: Only 3~5 extra masks added into standard CMOS process.
  1. Lowest power: 7.5V program/erase voltage, low-current FN/FN program/erase operations.
  2. High Security: Resistant to decode by de-processing.
  3. Ideal solution for consumer, industrial and especially IoT SoCs.
> MCU, Smart Card,EEPROM, FPGA, NOR Flash, etc. Key SONOS Macro Specs 55 nm SONOS Macro Power Consumption
  1. Balanced power consumption and performance (20ns Taa) for many applications Three power-saving modes: hibernate, sleep and standby. Low power read and program/erase operations to minimize active power. Low power read operation with Vdd=1.08 V to1.32 V.
500hrs 225°C Yield w/ 50K Pre-cycling at 85 °C (55nm)  *All dies pass reading on full 8Mb after 500hrs 225°C bake       High Reliability 55-nm SONOS Macro Reliability
  1. Endurance passes 500K cycles at 85°C w/o ECC. Vt window > 1.2V after     500K cycling.
  2. Retention passes Automotive Grade-2 AEC Q100 requirement.
        > Vt window > 0.6 V after 500 hrs bake @ 225C with 50K pre-cycling. >滑动查看下一张图片< 40-nm SONOS Macro Reliability
  1. Endurance passes 500K cycles  at 85°C w/o ECC. Vt window > 1.2V after  500K cycling.
  2. Retention passes Automotive Grade-2 AEC Q100 requirement
>Vt window > 0.6 V after 500 hrs bake @ 225C with 50K pre-cycling. >滑动查看下一张图片< 28-nm SONOS Macro Reliability
  1. Endurance passes 10K cycles at 125°C, Vt window >1.4 V after cycling.
  2. Retention passes accelerated 48-hour bake at 250°C with > 0.7 V window left.
>滑动查看下一张图片< 55nm SONOS in Production Press Release Customers NPI Status @ HLMC 55nm SONOS
  1. Engaged > 15 customers.
  2. 7 Customers signed contract to use
  3. 3 in mass production
  4. > 1,000 wafers started per month
SONOS eNVM Technology Availability SONOS eNVM is scalable and proven in volume production on many nodes. eCT Introduction embedded Charge Trap
  1. Based on charge-trap technology proven in six generations of MirrorBit® NOR Flash memory
Ideal solution for high-performance automotive MCUs
  1. Fast 8 ns random access time from -40°C to 150°C junction temperature and 30 ms word programming speed
  2. Smallest eNVM bit cell in the industry, 0.053 sq. µm, at 40 nm node
  3. Automotive Grade-1 reliability
Applications
  1. Hybrid and electric vehicle motor control, instrument clusters, body control modules and HVAC
  2. In volume production on UMC 40LP process flow
Key eCT Macro Specs  eCTReliability:  Automotive Qualification Data
  1. Passed accelerated stress tests for Automotive Grade-1 per AEC-Q100 standard
40nm eCT in Production Press Release Embedded NVM Solutions for Various Applications Conclusion
Cypress develops and licenses charge-trap NVM technologies and Flash macro IP
  1. Charge-trap NVMs serve in a wide range ofembedded applications
−SONOS: Consumer, Industrial SoCs −eCT: high-performance automotive MCUs,Automotive Grade-1 reliability
  1. Technologies are scalable to advanced nodes
−SONOS in mass production from 0.35um to 55nm, engineering samples available on 40uLP & 28HLP −eCT is in volume production on UMC 40LP process
  1. Low power for IoT: 0.9 V (40nm) or 1.2V(55nm) power supply, low-current operation, power-saving modes
  2. Cost-effective: 3~5 (SONOS) or 8 (eCT)extra masks beyond the standard CMOS.

Cypress 技术专区

  1. 利用电容传感技术进行液位测量的解决方案
  2. 汽车半导体产业的现状与前景来分析公司成功与否
  3. 赛普拉斯EZ-BLE PSoC XT/XR模组的关键特性和应用领域
  4. 探讨当今不断增强的嵌入式 MCU 的丰富功能以及创新应用
  5. 可穿戴设备组件典型电流消耗对比
原文标题:赛普拉斯低成本高可靠嵌入式闪存技术 文章出处:【微信号:CypressChina,微信公众号:Cypress】欢迎添加关注!文章转载请注明出处。
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